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論文・著書情報


タイトル
和文:イオン照射によるシリコン基板の高抵抗化技術 
英文: 
著者
和文: 井上 剛, 岡田健一, 平野拓一, 李 寧, 八木宏親, 松澤 昭.  
英文: 井上 剛, Kenichi Okada, Takuichi Hirano, ning li, 八木宏親, Akira Matsuzawa.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会総合大会講演論文集 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2017年3月25日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:電子情報通信学会総合大会 
英文: 
開催地
和文:名古屋 
英文: 

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