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論文・著書情報


タイトル
和文:PLD法による正方晶(Bi,K)TiO3エピタキシャル膜作製と圧電特性評価 
英文: 
著者
和文: 根本 祐一, 一ノ瀬 大地, 清水 荘雄, 内田 寛, 舟窪 浩.  
英文: 根本 祐一, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, HIROSHI FUNAKUBO.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2016年5月25日 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第33回強誘電体応用会議（FMA 33） 
英文: 
開催地
和文:京都府 
英文: 

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