Quantitative relationship between sputter-deposited-MoS2 properties and underlying-SiO2 surface roughness

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Quantitative relationship between sputter-deposited-MoS2 properties and underlying-SiO2 surface roughness

著者

和文:	大橋匠, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	Takumi Ohashi, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Express

巻, 号, ページ

Vol. 10

出版年月

2017年3月

出版者

和文:
英文:	IOP Publishing

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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DOI