反応性マグネトロンスパッタ法を用いた YH2単相エピタキシャル薄膜の配向制御 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	反応性マグネトロンスパッタ法を用いた YH2単相エピタキシャル薄膜の配向制御
英文:

著者

和文:	小松遊矢, 清水亮太, 笹原悠輝, 西尾和記, 大口裕之, 小倉正平, 福谷克之, 折茂慎一, 一杉太郎.
英文:	Yuya Komatsu, Ryota Shimizu, Yuki Sasahara, Kazunori Nishio, 大口裕之, 小倉正平, 福谷克之, 折茂慎一, Taro Hitosugi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年4月7日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本表面科学会第３回関東支部講演大会
英文:

開催地

和文:
英文:

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