原子層薄膜CaF<sub>2</sub>/Siヘテロ界面の価電子帯バンド不連続評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	原子層薄膜CaF₂/Siヘテロ界面の価電子帯バンド不連続評価
英文:	Evaluation of valence band offset of atomically-thin CaF₂/Si heterointerface

著者

和文:	福山聡史, 渡辺正裕.
英文:	Satoshi Fukuyama, MASAHIRO WATANABE.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

p. 12-265

出版年月

2018年3月17日

出版者

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会議名称

和文:	第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th The Japan Society of Applied Physics Spring Meeting

開催地

和文:	東京
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