Improving Crystalline Quality of Sputtering Deposited MoS2 Thin Film by Post-Deposition Sulfurization Annealing Using (t-C4H9)2S2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improving Crystalline Quality of Sputtering Deposited MoS2 Thin Film by Post-Deposition Sulfurization Annealing Using (t-C4H9)2S2

著者

和文:	S. Ishihara, K. Suda, Y. Hibino, N. Sawamoto, 大橋匠, S. Yamaguchi, 松浦賢太朗, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, 若林整, 小椋厚志.
英文:	S. Ishihara, K. Suda, Y. Hibino, N. Sawamoto, T. Ohashi, S. Yamaguchi, K. Matsuura, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, H. Wakabayashi, A. Ogura.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2015年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Conference on Solid State Devices and Materials

開催地

和文:
英文: