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タイトル
和文:Low-carrier density sputtered-MoS2 film by H2S annealing for normally-off accumulation-mode FET 
英文:Low-carrier density sputtered-MoS2 film by H2S annealing for normally-off accumulation-mode FET 
著者
和文: 清水 淳一, 大橋 匠, 松浦 賢太朗, 宗田 伊理也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, N. Ikarashi, 若林 整.  
英文: J. Shimizu, T. Ohashi, K. Matsuura, I. Muneta, K. Kakushima, K. Tsutsui, N. Ikarashi, H. Wakabayashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文:2017 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM) 
英文:2017 IEEE Electron Device Technology and Manufacturing Conference (EDTM) 
巻, 号, ページ         pp. 222-223
出版年月 2017年6月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:IEEE Electron Device Technology and Manufacturing Conference (EDTM) 
開催地
和文:富山 
英文:Toyama 
公式リンク http://ieeexplore.ieee.org/document/7947572/
 
DOI https://doi.org/10.1109/EDTM.2017.7947572

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