Low-carrier density sputtered-MoS2 film by H2S annealing for normally-off accumulation-mode FET

論文・著書情報

タイトル

和文:	Low-carrier density sputtered-MoS2 film by H2S annealing for normally-off accumulation-mode FET
英文:	Low-carrier density sputtered-MoS2 film by H2S annealing for normally-off accumulation-mode FET

著者

和文:	清水淳一, 大橋匠, 松浦賢太朗, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, N. Ikarashi, 若林整.
英文:	J. Shimizu, T. Ohashi, K. Matsuura, I. Muneta, K. Kakushima, K. Tsutsui, N. Ikarashi, H. Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	2017 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)
英文:	2017 IEEE Electron Device Technology and Manufacturing Conference (EDTM)

巻, 号, ページ

pp. 222-223

出版年月

2017年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	IEEE Electron Device Technology and Manufacturing Conference (EDTM)

開催地

和文:	富山
英文:	Toyama

公式リンク

DOI