酸化ガリウム系混晶の薄膜成長とヘテロ接合界面の物性評価に関する研究 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	酸化ガリウム系混晶の薄膜成長とヘテロ接合界面の物性評価に関する研究
英文:	Thin-film growth and evaluation of heterojunction properties of β-Ga2O3 based solid solutions

著者

和文:	若林諒.
英文:	Ryo Wakabayashi.

種別

種別:	学位論文(博士)
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第11158号

学位授与日

2019/03/26

審査員

大友明, 原正彦, 一杉太郎, 神谷利夫, 吉本護.

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