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論文・著書情報


タイトル
和文:TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS2膜の形成 
英文:MoS2 Film Formation by RF Magnetron Sputtering for Thin Film Transistors 
著者
和文: 大橋匠.  
英文: Takumi Ohashi.  
種別
種別:学位論文(博士)審査の要旨 
国名:Japan 
言語 English 
学位授与組織 Tokyo Institute of Technology 
報告番号 甲第10864号 
学位授与日 2018/03/26 
審査員  
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