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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Hall-Effect Mobility Enhancement of Sputtered MoS2 Film by Vapor Phase Sulfurization through Al2O3 Passivation Film 
著者
和文: M. Hamada, 松浦 賢太朗, T. Sakamoto, H. Tanigawa, 大橋 匠, 宗田 伊理也, 星井 拓也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 若林 整.  
英文: M. Hamada, K. Matsuura, T. Sakamoto, H. Tanigawa, T. Ohashi, I. Muneta, T. Hoshii, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Wakabayashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年10月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:2018 IEEE SOI-3D-Subthreshold Microelectronics Technology Unified Conference (S3S) 
開催地
和文: 
英文:Burlingame, CA 
DOI https://doi.org/10.1109/S3S.2018.8640213

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