(Invited) MOS Interface Defect Control in Ge/III-V Gate Stacks

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	(Invited) MOS Interface Defect Control in Ge/III-V Gate Stacks

著者

和文:	Shinichi Takagi, Mengnan Ke, Chih-Yu Chang, Chiaki Yokoyama, Masafumi Yokoyama, 後藤高寛, Koichi Nishi, Sanghee Yoon, Mitsuru Takenaka.
英文:	Shinichi Takagi, Mengnan Ke, Chih-Yu Chang, Chiaki Yokoyama, Masafumi Yokoyama, Takahiro Gotow, Koichi Nishi, Sanghee Yoon, Mitsuru Takenaka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年10月3日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	232nd Electrochemical Society (ECS) Meeting, D01: Semiconductors

開催地

和文:	MD
英文: