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論文・著書情報


タイトル
和文:埋め込みNiバックゲートを用いたp-MoS2/HfS2トンネルFET 
英文: 
著者
和文: 張 文倫, 祢津 誠晃, 金澤 徹, 雨宮 智宏, 宮本 恭幸.  
英文: Wenlun Zhang, Netsu Seikou, Toru Kanazawa, Tomohiro Amemiya, YASUYUKI MIYAMOTO.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         19a-212B-5
出版年月 2018年9月19日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第79回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:名古屋 
英文: 

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