Atomically flat La-silicate/Si interface using tungsten carbide gate electrode with nano-sized grain

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Atomically flat La-silicate/Si interface using tungsten carbide gate electrode with nano-sized grain

著者

和文:	Tuokedaerhan, K., Kakushima, K., Kataoka, Y., Nishiyama, A., Sugii, N., 若林整, Tsutsui, K., Natori, K., Iwai, H..
英文:	Tuokedaerhan, K., Kakushima, K., Kataoka, Y., Nishiyama, A., Sugii, N., Hitoshi Wakabayashi, Tsutsui, K., Natori, K., Iwai, H..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Letters

巻, 号, ページ

Vol. 104 No. 2

出版年月

2014年

出版者

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会議名称

和文:
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開催地

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DOI