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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Selective etching of HfN gate electrode for HfN/HfSiON gate stack in-situ formations 
著者
和文: Sano, T., 大見俊一郎.  
英文: Sano, T., Shun-ichiro OHMI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:IEICE Electronics Express 
巻, 号, ページ Vol. 8    No. 18    pp. 1492-1497
出版年月 2011年 
出版者
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1587/elex.8.1492

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