Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:開放型熱処理装置を用いたSi表面平坦化プロセスの検討 (シリコン材料・デバイス) 
英文: 
著者
和文: 工藤 聡也, 大見俊一郎.  
英文: 工藤 聡也, Shun-ichiro OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 114    No. 255    pp. 13-17
出版年月 2014年10月16日 
出版者
和文:一般社団法人電子情報通信学会 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.