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論文・著書情報


タイトル
和文:Al2O3/GaSb MOS界面構造における絶縁膜堆積前処理の検討 
英文: 
著者
和文: 後藤高寛, 藤川紗千恵, 藤代博記, 小倉睦郎, 安田哲二, 前田辰郎.  
英文: Takahiro Gotow, 藤川紗千恵, 藤代博記, 小倉睦郎, 安田哲二, 前田辰郎.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年 
出版者
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会議名称
和文:第61回 応用物理学会春季学術講演会 
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開催地
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