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タイトル
和文:CMOSプロセス加工Siプラットフォーム上ハイブリッド光デバイスに向けたInP/Si直接接合へのSi側ダミーパターンの影響 
英文: 
著者
和文: 御手洗 拓矢, 稲村 美希, 阿部 智之, 守田 憲司, 雨宮 智宏, 西山 伸彦.  
英文: Takuya Mitarai, 稲村 美希, 阿部 智之, 守田 憲司, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
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巻, 号, ページ        
出版年月 2019年9月 
出版者
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会議名称
和文:第80回応用物理学会秋季学術講演会 
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開催地
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