Crystallization Behavior and Ferroelectric Property of HfO2-ZrO2 Films Fabricated by Chemical Solution Deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Crystallization Behavior and Ferroelectric Property of HfO2-ZrO2 Films Fabricated by Chemical Solution Deposition

著者

和文:	S. Nakayama, 舟窪浩, 内田寛.
英文:	S. Nakayama, H. Funakubo, H. Uchida.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年5月27日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference)

開催地

和文:
英文:	Hiroshima