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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Ferroelectric HfO2 thin films with abundant dopants 
著者
和文: S. Nakayama, 舟窪 浩, 内田 寛.  
英文: S. Nakayama, H. Funakubo, H. Uchida.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年1月23日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:EMA 2019 (Electronic Materials and Applications 2019) 
開催地
和文: 
英文:Orlando, FL 

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