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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Resistivity Reduction of Low-Carrier-Density Sputtered-MoS2 Film using Fluorine Gas 
著者
和文: 岡田 泰典, 山口 晋平, 大橋 匠, 宗田 伊理也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 若林 整.  
英文: Yasunori Okada, Shimpei Yamaguchi, Takumi Ohashi, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2017年6月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:International Workshop on Junction Technology 
開催地
和文: 
英文:Kyoto 

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