フェニルマレイミドイソシアネート誘導体を用いた高分子修飾反応とその応用 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	フェニルマレイミドイソシアネート誘導体を用いた高分子修飾反応とその応用
英文:

著者

和文:	高嶋力任, 木田淳平, 青木大輔, 大塚英幸.
英文:	Rikito Takashima, Jumpei Kida, Daisuke Aoki, Hideyuki Otsuka.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年3月2日

出版者

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会議名称

和文:	関東高分子若手研究会2018年度学生発表会・交流会
英文:

開催地

和文:	東京都目黒区
英文:

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