劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法

論文・著書情報

タイトル

和文:	劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法
英文:	Mask Optimization Considering Process Variation by Subgradient Method

著者

和文:	小平行秀, 東梨奈, 松井知己, 高橋篤司, 児玉親亮.
英文:	Yukihide Kohira, Rina Azuma, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2019-53)
英文:	IEICE Technical Report (VLD2019-53)

巻, 号, ページ

Vol. 119 No. 282 pp. 197-202

出版年月

2019年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	VLSI設計技術研究会
英文:	Technical Committee on VLSI Design Technologies

開催地

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