スパッタ成膜中の強磁性薄膜成長過程の内部応力観測

論文・著書情報

タイトル

和文:	スパッタ成膜中の強磁性薄膜成長過程の内部応力観測
英文:	In-situ internal stress observation of growing ferromagnetic thin films during sputter-deposition process

著者

和文:	中川茂樹, 林原久憲, 中込将成, 小川良正, 高村陽太.
英文:	Shigeki Nakagawa, Hisanori Hayashibara, Masanari Nakagome, Yoshimasa Ogawa, Yota Takamura.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	信学技報
英文:	IEICE Tech. Rep.

巻, 号, ページ

vol. 119 no. 326, MRIS2019-45 pp. 51-56

出版年月

2019年12月6日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	電子情報通信学会磁気記録・情報ストレージ研究会 (MRIS)
英文:	IEICE Technical Committee on Magnetic Recording & Information Storage (MRIS)

開催地

和文:	愛媛県松山市
英文:	Matsuyama city, Ehime pref.

公式リンク