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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Ferroelectric Properties of Si doped HfO2 Thin Films with NiSi2 as Bottom Electrode 
著者
和文: モリナ レイエス ホエル, 岩塚 正晴, 星井 拓也, 大見 俊一郎, 舟窪 浩, A. Hori, I. Fujiwara, 若林 整, 筒井 一生, 角嶋 邦之.  
英文: J. Molina, H. Iwatsuka, T. Hoshii, S. Ohmi, H. Funakubo, A. Hori, I. Fujiwara, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Kakushima.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年5月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:235th ECS Meeting 
開催地
和文: 
英文:Dallas 

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