光重合プロセスの分子拡散により形成される表面形状の観察

論文・著書情報

タイトル

和文:	光重合プロセスの分子拡散により形成される表面形状の観察
英文:	Analysis of Surface Relief Structure Formed by Photopolymerization with a Grating Mask

著者

和文:	橋本彩有里, 相沢美帆, 赤松範久, 佐々木健夫, 宍戸厚.
英文:	Sayuri Hashimoto, Miho Aizawa, Norihisa Akamatsu, Takeo Sasaki, Atsushi Shishido.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2019年3月18日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本化学会第99春季年会
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開催地

和文:	兵庫
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