T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	First dynamic exposure results from an electron projection lithography tool

著者

和文:

鈴木一明, T. Fujiwara, S. Kojima, N. Hirayanagi, T. Yahiro, J. Udagawa, S. Shimizu, H. Yamamoto, M. Suzuki, H. Takekoshi, S. Fukui, M. Hamashima, J. Ikeda, T. Okino, H. Shimizu, S. Takahashi, A. Yamada, T. Umemoto, S. Katagiri, Y. Ohkubo, T. Shimoda, K. Hirose, T. Tanida, Y. Watanabe, T. Kaminaga, Y. Kohama, F. Mori, S. Takemoto, T. Yoshioka, H. Hirose, K. Morita, K. Hada, S. Kawata, T. Sato, Y. Sato, M. Tokunaga, K. Okamoto, Y. Kakizaki, T. Miura.

英文:

Kazuaki Suzuki, T. Fujiwara, S. Kojima, N. Hirayanagi, T. Yahiro, J. Udagawa, S. Shimizu, H. Yamamoto, M. Suzuki, H. Takekoshi, S. Fukui, M. Hamashima, J. Ikeda, T. Okino, H. Shimizu, S. Takahashi, A. Yamada, T. Umemoto, S. Katagiri, Y. Ohkubo, T. Shimoda, K. Hirose, T. Tanida, Y. Watanabe, T. Kaminaga, Y. Kohama, F. Mori, S. Takemoto, T. Yoshioka, H. Hirose, K. Morita, K. Hada, S. Kawata, T. Sato, Y. Sato, M. Tokunaga, K. Okamoto, Y. Kakizaki, T. Miura.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Vac. Sci. Technol. B

巻, 号, ページ

Vol. 21 No. 6 pp. 2686-2690

出版年月

2003年12月4日

出版者

和文:
英文:	American Vacuum Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.