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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Projection reduction exposure with variable axis immersion lenses: Next generation lithography
著者
和文:
H.C. Pfeiffer
,
R.S. Dhaliwal
,
S.D. Golladay
,
S.K. Doran
,
M.S. Gordon
,
T.R. Groves
,
R.A. Kendall
,
J.E. Lieberman
,
P.E. Petric
,
D.J. Pinckney
,
R.J. Quickle
,
C.F. Robinson
,
J.D. Rockrohr
,
J.J. Senesi
,
W. Stickel
,
E.V. Tressler
,
A. Tanimoto
,
T. Yamaguchi
,
K. Okamoto
,
鈴木一明
,
T. Okino
,
S. Kawata
,
K. Morita
,
S. Suzuki
,
H. Shimizu
,
S. Kojima
,
G. Varnell
,
W.T. Novak
,
D.P. Stumbo
,
M. Sogard
.
英文:
H.C. Pfeiffer
,
R.S. Dhaliwal
,
S.D. Golladay
,
S.K. Doran
,
M.S. Gordon
,
T.R. Groves
,
R.A. Kendall
,
J.E. Lieberman
,
P.E. Petric
,
D.J. Pinckney
,
R.J. Quickle
,
C.F. Robinson
,
J.D. Rockrohr
,
J.J. Senesi
,
W. Stickel
,
E.V. Tressler
,
A. Tanimoto
,
T. Yamaguchi
,
K. Okamoto
,
Kazuaki Suzuki
,
T. Okino
,
S. Kawata
,
K. Morita
,
S. Suzuki
,
H. Shimizu
,
S. Kojima
,
G. Varnell
,
W.T. Novak
,
D.P. Stumbo
,
M. Sogard
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
J. Vac. Sci. Technol. B
巻, 号, ページ
Vol. 17 pp. 2840-2846
出版年月
1999年
出版者
和文:
英文:
American Vacuum Society
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
©2007
Tokyo Institute of Technology All rights reserved.