Projection reduction exposure with variable axis immersion lenses: Next generation lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Projection reduction exposure with variable axis immersion lenses: Next generation lithography

著者

和文:	H.C. Pfeiffer, R.S. Dhaliwal, S.D. Golladay, S.K. Doran, M.S. Gordon, T.R. Groves, R.A. Kendall, J.E. Lieberman, P.E. Petric, D.J. Pinckney, R.J. Quickle, C.F. Robinson, J.D. Rockrohr, J.J. Senesi, W. Stickel, E.V. Tressler, A. Tanimoto, T. Yamaguchi, K. Okamoto, 鈴木一明, T. Okino, S. Kawata, K. Morita, S. Suzuki, H. Shimizu, S. Kojima, G. Varnell, W.T. Novak, D.P. Stumbo, M. Sogard.
英文:	H.C. Pfeiffer, R.S. Dhaliwal, S.D. Golladay, S.K. Doran, M.S. Gordon, T.R. Groves, R.A. Kendall, J.E. Lieberman, P.E. Petric, D.J. Pinckney, R.J. Quickle, C.F. Robinson, J.D. Rockrohr, J.J. Senesi, W. Stickel, E.V. Tressler, A. Tanimoto, T. Yamaguchi, K. Okamoto, Kazuaki Suzuki, T. Okino, S. Kawata, K. Morita, S. Suzuki, H. Shimizu, S. Kojima, G. Varnell, W.T. Novak, D.P. Stumbo, M. Sogard.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Vac. Sci. Technol. B

巻, 号, ページ

Vol. 17 pp. 2840-2846

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:	American Vacuum Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: