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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Investigation of proximy effect correction in electron projection lithography (EPL)
著者
和文:
T. Okino
,
鈴木一明
,
K. Okamoto
,
S. Kawata
,
K. Uchikawa
,
S. Suzuki
,
S. Shimizu
,
T. Fujiwara
,
A. Yamada
,
K. Kamijo
.
英文:
T. Okino
,
Kazuaki Suzuki
,
K. Okamoto
,
S. Kawata
,
K. Uchikawa
,
S. Suzuki
,
S. Shimizu
,
T. Fujiwara
,
A. Yamada
,
K. Kamijo
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Proceeding of SPIE
巻, 号, ページ
Vol. 3997 pp. 235-244
出版年月
2000年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
SPIE Microlithography
開催地
和文:
英文:
Santa Clara, CA
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