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論文・著書情報


タイトル
和文:C リングメタマテリアル構造のための電子ビームリソグラフィーの近接効果補正 
英文:Shape PEC of Electron-beam Lithography for C-ring Metamaterial Structures 
著者
和文: 田中 真琴, 雨宮 智宏, 各務 響, 岡田 祥, MOATAZ Shaher Anis Mahmoud Eissa, 西山 伸彦.  
英文: Makoto Tanaka, Tomohiro Amemiya, Hibiki Kagami, Sho Okada, Moataz Eissa, Nobuhiko Nishiyama.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年12月5日 
出版者
和文: 
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会議名称
和文: 
英文:Photonic Device Workshop 2019 
開催地
和文:東京 
英文: 

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