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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:NiSi2 as a Bottom Electrode for Enhanced Endurance of Ferroelectric Y-doped HfO2 Thin Films 
著者
和文: モリナ レイエス ホエル, 星井 拓也, 大見 俊一郎, 舟窪 浩, 堀 敦, Ichiro Fujiwara, 若林 整, 筒井 一生, 角嶋 邦之.  
英文: Joel Molina-Reyes, Takuya Hoshii, Shun-Ichiro Ohmi, Hiroshi Funakubo, Atsushi Hori, Ichiro Fujiwara, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Kuniyuki Kakushima.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 59    No. SG   
出版年月 2020年2月19日 
出版者
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会議名称
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開催地
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