Enhancing electrostatic coupling in silicon quantum dot array by dual gate oxide thickness for large-scale integration

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Enhancing electrostatic coupling in silicon quantum dot array by dual gate oxide thickness for large-scale integration

著者

和文:	N. Lee, R. Tsuchiya, G. Shinkai, Y. Kanno, T. Mine, T. Takahama, 溝口来成, 小寺哲夫, D. Hisamoto, H. Mizuno.
英文:	N. Lee, R. Tsuchiya, G. Shinkai, Y. Kanno, T. Mine, T. Takahama, R. Mizokuchi, T. Kodera, D. Hisamoto, H. Mizuno.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Appl. Phys. Lett

巻, 号, ページ

vol. 116

出版年月

2020年4月23日

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI