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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Enhancement-Mode Accumulation Capacitance-Voltage Characteristics in TiN/ALD-Al2O3/Sputtered-MoS2 Top-Gated Stacks 
著者
和文: 谷川 晴紀, 松浦 賢太朗, 宗田 伊理也, 星井 拓也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 若林 整.  
英文: Haruki Tanigawa, Kentaro Matsuura, Iriya Muneta, Takuya Hoshii, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) 
巻, 号, ページ Vol. 59       
出版年月 2020年4月 
出版者
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会議名称
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開催地
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