Fabrication of fluoride heterostructures on Si: High temperature growth with CoSi2 buffer layer controlling undesirable chemical reactions

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of fluoride heterostructures on Si: High temperature growth with CoSi2 buffer layer controlling undesirable chemical reactions

著者

和文:	高橋慶太, 田村智晃, 筒井一生.
英文:	T. Takahashi, T. Tamura, K. Tsutsui.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年2月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics: WIMNACT 39

開催地

和文:
英文:	Yokohama