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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Epitaxial NiSi2 Buffer Technique for Fluoride Resonant Tunneling Devices on Si 
著者
和文: 高橋 慶太, 吉住 友樹, Yuji Fukuoka, 齊藤 昇, 筒井 一生.  
英文: Keita Takahashi, Yuki Yoshizumi, Yuji Fukuoka, Noboru Saito, Kazuo Tsutsui.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年9月22日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:2010 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials (SSDM2010) 
開催地
和文: 
英文:Tokyo 

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