Profiling of Carrier Properties for Shallow Junctions Using a New Sub-nanometer Step-by-step Etching Technique

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Profiling of Carrier Properties for Shallow Junctions Using a New Sub-nanometer Step-by-step Etching Technique

著者

和文:	筒井一生, 渡邉将光, 中川恭成, 酒井一憲, 甲斐隆行, Cheng-Guo Jin, Yuichiro Sasaki, 角嶋邦之, AHMET PARHAT, 水野文二, 服部健雄, 岩井洋.
英文:	Kazuo Tsutsui, Masamitsu Watanabe, Yasumasa Nakagawa, Kazunori Sakai, Takayuki Kai, Cheng-Guo Jin, Yuichiro Sasaki, Kuniyuki Kakushima, Parhat Ahmet, Bunji Mizuno, Takeo Hattori, Hiroshi Iwai..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2008年5月15日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 8th International Workshop on Junction Technology (IWJT2008)

開催地

和文:
英文:	Shanghai