Band Bending Measurement of HfO2/SiO2/Si Capacitor with ultra-thin La2O3 Insertion by XPS

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Band Bending Measurement of HfO2/SiO2/Si Capacitor with ultra-thin La2O3 Insertion by XPS

著者

和文:	角嶋邦之, Kouichi Okamoto, 足立学, 舘喜一, 宋在烈, Soushi Sato, 川那子高暢, AHMET PARHAT, 筒井一生, 杉井信之, 服部健雄, 岩井洋.
英文:	Kuniyuki Kakushima, Kouichi Okamoto, Manabu Adachi, Kiichi Tachi, Jaeyeol Song, Soushi Sato, Takamasa Kawanago, Parhat Ahmet, Kazuo Tsutsui, Nobuyuki Sugii, Takeo Hattori, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2007年11月12日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI2007)

開催地

和文:
英文:	Tokyo