Charge Trapping Characteristics of W-La2O3-nSi Mis Capacitors After Post-Metallization Annealing PMA in N2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Charge Trapping Characteristics of W-La2O3-nSi Mis Capacitors After Post-Metallization Annealing PMA in N2

著者

和文:	モリナレイエスホエル, 舘喜一, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 杉井信之, 服部健雄, 岩井洋.
英文:	J. Molina, K. Tachi, K. Kakushima, P. Ahmet, K. Tsutsui, N. Sugii, T. Hattori, I. Hiroshi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2006年10月29日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2006 Joint International Meeting of ECS

開催地

和文:
英文:	Cancun