Leakage Current Characteristics of Ultra-Shallow Junctions formed by B2H6 Plasma Doping

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Leakage Current Characteristics of Ultra-Shallow Junctions formed by B2H6 Plasma Doping

著者

和文:	HENDRIANSYAH SAUDDIN, 佐々木裕平, 守谷仁, 水野文二, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 杉井信之, 筒井一生, 岩井洋.
英文:	H. Sauddin, Y. Sasaki, H. Ito, B. Mizuno, P. Ahmet, K. Kakushima, N. Sugii, K. Tsutsui, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2006年10月29日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2006 Joint International Meeting of ECS

開催地

和文:
英文:	Cancun,