Negative Differential Resistance in CaF<sub>2</sub>/Si Double Barrier Resonant Tunneling Diodes via Plasma Etching Mesa Isolation process

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Negative Differential Resistance in CaF₂/Si Double Barrier Resonant Tunneling Diodes via Plasma Etching Mesa Isolation process

著者

和文:	熊谷佳郎, 福山聡史, 利根川啓希, 三上萌, 廣瀬皓大, 冨澤勘太, 市川研佑, 渡辺正裕.
英文:	Yoshiro Kumagai, Satoshi Fukuyama, Hiroki Tonegawa, Kizashi Mikami, Kodai Hirose, Kanta Tomizawa, Keisuke Ichikawa, Masahiro Watanabe.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年10月28日

出版者

和文:
英文:	The Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:	32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)

開催地

和文:	広島
英文:	Hiroshima