Growth of extremely flat Bi(110) films on a Si(111)√3 × √3-B substrate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of extremely flat Bi(110) films on a Si(111)√3 × √3-B substrate

著者

和文:	長瀬謙太郎, 潮田亮太, 中辻寛, Tetsuroh Shirasawa, 平山博之.
英文:	Kentaro Nagase, Ryota Ushioda, Kan Nakatsuji, Tetsuroh Shirasawa, Hiroyuki Hirayama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Express

巻, 号, ページ

Vol. 13 p. 085506 (4 pages)

出版年月

2020年7月10日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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