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論文・著書情報


タイトル
和文:深掘り反応性イオンエッチング(DRIE)における開口パターンの高アスペクト比形状への影響 
英文:Effect of aperture pattern on high-aspect-ratio shape in deep reactive ion etching(DRIE) 
著者
和文: 新井 真俊, 松谷 晃宏, 吉田 和弘, 金 俊完.  
英文: Masatoshi Arai, Akihiro Matsutani, KAZUHIRO YOSHIDA, Joon-wan KIM.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:山梨講演会 講演論文集 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 200-3    D44
出版年月 2020年11月16日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:山梨講演会 
英文:Yamanashi District Conference 
開催地
和文:山梨県 
英文: 
公式リンク http://society.me.yamanashi.ac.jp/jsme/2020/
 

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