Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:Si基板へのH/Heイオン照射による損失低減とSiの比誘電率の変化 
英文: 
著者
和文: 平野 拓一, 水野 麻弥, 李 寧, 井上 剛, 曽我部 正嗣, 岡田 健一.  
英文: Takuichi Hirano, 水野 麻弥, 李 寧, 井上 剛, 曽我部 正嗣, Kenichi Okada.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年5月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:電子情報通信学会 エレクトロニクスシミュレーション研究会 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.