Fabrication of Si photonic waveguides by electron beam lithography using improved proximity effect correction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of Si photonic waveguides by electron beam lithography using improved proximity effect correction

著者

和文:	MOATAZ Eissa, 御手洗拓矢, 雨宮智宏, 宮本恭幸, 西山伸彦.
英文:	Moataz Eissa, Takuya Mitarai, Tomohiro Amemiya, Yasuyuki Miyamoto, Nobuhiko Nishiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Volume 59 Number 12 p. 126502

出版年月

2020年11月20日

出版者

和文:
英文:	IOP publishing

会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文:

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