Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Self-Aligned-TiSi2 Bottom Contact with APM Cleaning and Post-annealing for Sputtered-MoS2 Film 
著者
和文: 五十嵐 智, Yusuke Mochiduki, 谷川 晴紀, 濱田 昌也, 松浦 賢太朗, 宗田 伊理也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 若林 整.  
英文: Satoshi Igarashi, Yusuke Mochiduki, Haruki Tanigawa, Masaya Hamada, Kentaro Matsuura, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) (SSDM特集号) 
巻, 号, ページ Vol. 60        Page SBBH04
出版年月 2021年1月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.35848/1347-4065/abd535

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.