Low Contact Resistance at Interface between Sputtered-MoS2 Film and TiSi2 Contact Treated by Higher-Temperature Forming-Gas Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low Contact Resistance at Interface between Sputtered-MoS2 Film and TiSi2 Contact Treated by Higher-Temperature Forming-Gas Annealing

著者

和文:	五十嵐智, Yusuke Mochiduki, 谷川晴紀, 濱田昌也, 松浦賢太朗, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	Satoshi Igarashi, Yusuke Mochiduki, Haruki Tanigawa, Masaya Hamada, Kentaro Matsuura, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2020年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Conference of Solid State Devices and Materials (SSDM) 2020

開催地

和文:
英文: