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論文・著書情報


タイトル
和文:BiSbトポロジカル絶縁体 - 磁性体多層膜のスパッタリング法による製膜と評価 
英文:Sputtering deposition and characterization of BiSb topological insulator - ferromagnet multilayers 
著者
和文: 脱凡.  
英文: Fan Tuo.  
種別
種別:学位論文(博士)論文要旨 
国名:Japan 
言語 English 
学位授与組織 Tokyo Institute of Technology 
報告番号  
学位授与日  
審査員  

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