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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Fast 3D lithography simulation by convolutional neural network: POC study 
著者
和文: 田邊 容由, 佐藤 真平, 高橋 篤司.  
英文: Hiroyoshi Tanabe, Shimpei Sato, Atsushi Takahashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. SPIE 11518, Photomask Technology 2020, 115180L 
巻, 号, ページ        
出版年月 2020年9月20日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1117/12.2575971

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