スパッタリング法によるMg2Si基薄膜の作製とその熱電特性評価に関する研究 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	スパッタリング法によるMg2Si基薄膜の作製とその熱電特性評価に関する研究
英文:

著者

和文:	片桐淳生.
英文:	Atsuo Katagiri.

種別

種別:	学位論文(博士)
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第11956号

学位授与日

2021/03/26

審査員

舟窪浩, 吉本護, 木村好里, 片瀬貴義, 松田晃史.

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.