マルチフェロイックBiFe<sub>0.9</sub>Co<sub>0.1</sub>O<sub>3</sub>薄膜のデバイス化に向けたフォトリソグラフィによるナノドット作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	マルチフェロイックBiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜のデバイス化に向けたフォトリソグラフィによるナノドット作製
英文:

著者

和文:	岡島慈英, 東正樹, 重松圭.
英文:	Jei Okajima, Masaki Azuma, Kei Shigematsu.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2022年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	粉体粉末冶金協会2022年度秋季大会
英文:

開催地

和文:	京都
英文:

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