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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Accelerating EUV lithography simulation with weakly guiding approximation and STCC formula 
著者
和文: 田邊 容由, 神宮司 明良, 高橋 篤司.  
英文: Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. SPIE 12750, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023, 127500D 
巻, 号, ページ        
出版年月 2023年11月21日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文:Monterey California 
DOI https://doi.org/10.1117/12.2688029

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